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반도체 공정챔버용 냉각 시스템 및 이의 제어 방법
  • 고등기술연구원연구조합
logo 반도체 공정챔버용 냉각 시스템 및 이의 제어 방법
  • WIPO 기술분류 전기 > 반도체
  • 표준산업분류 반도체 제조업
  • 국가과학기술표준분류 기계 > 요소부품
  • 지식재산권 상태 등록
  • 출원일/등록일 2024-06-28   /   2024-10-17
  • 거래유형
  • 기술료 조건 미정, 협의 필요

요약
반도체 공정챔버용 냉각 시스템이 개시된다. 상기 반도체 공정챔버용 냉각 시스템은, 웨이퍼 척과의 전도에 의해 반도체 공정챔버가 냉각되고, 상기 웨이퍼 척을 냉각시키는 냉각제가 순환하는 메인 사이클 및 상기 메인 사이클을 순환하는 냉각제를 냉각시키는 유체가 순환하는 제1 사이클을 포함하고, 상기 메인 사이클은 기액분리기를 포함하고, 상기 기액분리기에 의해 분리된 액체 냉각제가 상기 웨이퍼 척으로 공급되고, 상기 웨이퍼 척으로 공급된 액체 냉각제는 상기 웨이퍼 척을 냉각시키며 기체로 상이 변화하고, 상기 메인 사이클을 순환하는 냉각제는 지구온난화지수가 5.0 이하인 성분만을 포함한다.
대표청구항
웨이퍼 척과의 전도에 의해 반도체 공정챔버가 냉각되고, 상기 웨이퍼 척을 냉각시키는 냉각제가 순환하는 메인 사이클 및 상기 메인 사이클을 순환하는 냉각제를 냉각시키는 유체가 순환하는 제1 사이클을 포함하고, 상기 메인 사이클은 기액분리기를 포함하고, 상기 기액분리기에 의해 분리된 액체 냉각제가 상기 웨이퍼 척으로 공급되고, 상기 웨이퍼 척으로 공급된 액체 냉각제는 상기 웨이퍼 척을 냉각시키며 기체로 상이 변화하고, 상기 메인 사이클을 순환하는 냉각제는 지구온난화지수가 5.0 이하인 성분만을 포함하는, 반도체 공정챔버용 냉각 시스템.

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